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portada Plasma Etching: Fundamentals and Applications (Series on Semiconductor Science and Technology) (en Inglés)
Formato
Libro Físico
Año
1998
Idioma
Inglés
N° páginas
356
Encuadernación
Tapa Dura
ISBN
019856287x
ISBN13
9780198562870
Categorías

Plasma Etching: Fundamentals and Applications (Series on Semiconductor Science and Technology) (en Inglés)

M. Sugawara (Autor) · Oxford University Press · Tapa Dura

Plasma Etching: Fundamentals and Applications (Series on Semiconductor Science and Technology) (en Inglés) - M. Sugawara

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Reseña del libro "Plasma Etching: Fundamentals and Applications (Series on Semiconductor Science and Technology) (en Inglés)"

This book focuses on the remarkable recent advances in understanding low pressure radio frequency glow discharges. It explains the basic analytical theory, plasma physics, and plasma diagnostics, before proceeding to the details of the etching process.

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